找回密码
 注册

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

查看: 2412|回复: 1

[求助] 小工艺阱偏效应

[复制链接]
发表于 2019-11-27 20:50:36 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

×
本帖最后由 LXS13225665126 于 2019-11-28 19:03 编辑

大佬们,tsmc22、28、40nm,dummy的有源区留到多少u才比较好,就是边缘到有效mos的距离留多少合适。上下和左右的距离预留是一样的吗。

发表于 2020-2-6 17:40:18 | 显示全部楼层
你问的是WPE吧?阱包关键器件MOS栅要求大于2um(28、40nm),即可忽略
实际看电路需求,是否对WPE敏感
回复 支持 反对

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

X

QQ|手机版|小黑屋|关于我们|联系我们|隐私声明|EETOP 创芯网 ( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2026-1-15 22:29 , Processed in 0.030320 second(s), 4 queries , Gzip On, Redis On.

Powered by Discuz! X3.5

© 2001-2026 Discuz! Team.

快速回复 返回顶部 返回列表